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公告名称： |
高真空磁控溅射仪成交结果公告 |
| 所属地区： |
北京 |
发布时间： |
2026-03-24 |
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详细内容：
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项目概况 | 项目名称 | 高真空磁控溅射仪 | 项目编号 | BH202603160378 | | 开始时间 | 2026-03-17 11:33 | 结束时间 | 2026-03-22 11:33 | | 供应商资格要求 | 参照《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的资格条件。 | 预算金额（元） | 350000.00 | | 联系电话 | 13810312461 | 成交供应商信息 | 成交供应商 | 北京泰科诺科技有限公司 | 成交金额 | 250000 | | 成交理由 | 符合需求，价格最低 | 采购货物信息列表 | 序号 | 货物（服务）名称 | 数量 | 计量单位 | 预算单价 | | 1 | 高真空磁控溅射仪 | 1 | 台 | 350000 | | 技术参数 | 1.真空腔室：≥Ф400×H400mm；
2.真空系统：采用分子泵与+高真空阀门，支持真空度显示，真空极限需达10-5Pa级；
3.设备从大气抽至10-3Pa级真空度≤15min；
4. 基片台尺寸：需达Φ150mm，可支持不同规格基片；
7. 基片台支持水冷，支持基片旋转；
8. 溅射系统需配3套及以上的3英寸大小磁控溅射靶，溅射靶角度、高度可以调节以实现溅射控制
9. 支持从上到下溅射，配装挡板，装配直流流脉冲电源与射频电源，支持金属及氧化物镀膜；
10.气路配有3路及其以上质量流量控制器与混气装置；
11.膜厚不均匀性需≤±4%；
12.整体可实现自动控制；
13.配有报警及保护监测系统； | | 相关材料 | |
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